磁流变液体光学及半导体元件抛光方法

风轻扬

磁流变液体光学及半导体元件抛光方法
下载全文
磁流变液体光学及半导体元件抛光方法.pdf (86.76 KB, 下载次数: 2)

2015-7-12 18:53 上传

点击文件名下载附件

出　　处：《技术与市场》 2014年第21卷第8期 399-399页,共1页
Technology and Market
摘　　要：磁流变抛光工艺（TMP）是终端计算机控制的半导体抛光，几何精确率高，这种抛光在磁场的作用下充分利用了磁流变液体（MRZH），在这种磁场下液体的粘稠会增加可塑性，可以抛光各种材料。项目描述：磁流变抛光工艺（TMP）借助于各种结构的磁流变模具（MMP，是插图中所展示的各种磁流变模具之一）实施抛光。磁流变模具（MMP）属于基础车床，其示意图和结构不受光学和半导体零件材料的型号及品种限制，磁流变抛光设备完全是自动化的，电脑控制，而且它区别于传统抛光设备，不用给每个需要抛光的部分测量尺寸。
关键词：磁流变液体 半导体元件 抛光工艺 光学 零件材料 抛光设备 计算机控制 电脑控制