磁控溅射技术的原理与发展

遗忘的回忆

磁控溅射技术的原理与发展
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2015-7-12 21:29 上传

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作　　者：王俊 郝赛
机构地区：山东大学材料科学与工程学院,山东济南250002
出　　处：《科技创新与应用》 2015年第2期 35-35页,共1页
摘　　要：磁控溅射技术因为其自身所具有的显著优点，已经被越来越广泛的运用于各个领域，其中以工业镀膜方面的应用最为广泛，相应的其生产技术也得到了很大的改进。文章着重讲述磁控技溅射技术的原理，特点以及磁控溅射技术的发展趋势。
关键词：镀膜技术 磁控溅射 平衡磁控溅射 非平衡磁控溅射