真空溅射镀膜

遗忘的回忆

真空溅射镀膜
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真空技术及应用系列讲座：第十九讲真空溅射镀膜.pdf (212.59 KB, 下载次数: 21)

2015-7-12 22:43 上传

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作　　者：张以忱
机构地区：东北大学,辽宁沈阳110004
出　　处：《真空》 2014年第51卷第3期 78-80页,共3页
Vacuum
摘　　要：（1）溅射原子的能量与角分布 入射离子能量大约在100-500eV之间时，靶上溅射出来的粒子绝大部分是靶材的单原子态，离化状态仅占1％左右。如果入射离子的能量很高，会溅射出较多的复合粒子。
关键词：溅射镀膜 真空技术 讲座 应用 离子能量 入射离子 复合粒子 原子态

xiezhizhi

好继续楼主

kingnai

看起來是非常專業的技術..