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[讨论] 氟化镁MgF2-耐摩擦性问题!

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发表于 2015-9-5 22:51:13 | 显示全部楼层 |阅读模式
大家好,请问大家AR膜最外层氟化镁不耐摩擦测试是什么原因?

目前基片加热至290度,蒸发速率5A/s,蒸发时真空在-4Pa级别,无离子源辅助。
成品脱膜测试通过,但在耐磨测试中不合格,用纱布摩擦表面会有痕迹。
大家有没有碰到过这个情况?请问应该如何解决?

发表于 2015-9-6 18:33:31 | 显示全部楼层
不考虑其他因素,要快速蒸发才牢。
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 楼主| 发表于 2015-9-6 19:10:37 | 显示全部楼层
gb936 发表于 2015-9-6 18:33
不考虑其他因素,要快速蒸发才牢。

谢谢,请问5A/s算慢还是快?
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发表于 2015-9-7 07:38:02 | 显示全部楼层
士官长 发表于 2015-9-6 19:10
谢谢,请问5A/s算慢还是快?

没有工艺?
多层镀都不低于30--50A/s,单层还要高
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 楼主| 发表于 2015-9-7 12:02:55 | 显示全部楼层
30-50A/s?
我记得氟化镁一般就是10A/s以下的速度?
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发表于 2015-10-7 09:10:03 | 显示全部楼层
设计中除了MgF2还有什么材料?考虑不同材料间应力和附着力影响
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发表于 2015-10-29 12:31:11 | 显示全部楼层
gb936 发表于 2015-9-7 07:38
没有工艺?
多层镀都不低于30--50A/s,单层还要高

什么镀膜设备,速率30-50A/S ,太牛了吧
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 楼主| 发表于 2015-10-31 12:59:49 | 显示全部楼层
诸葛流星 发表于 2015-10-7 09:10
设计中除了MgF2还有什么材料?考虑不同材料间应力和附着力影响

两种材料:HfO2和MgF2
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发表于 2015-12-5 21:41:04 来自手机 | 显示全部楼层
30~50?好吓人啊
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发表于 2015-12-7 12:56:46 来自手机 | 显示全部楼层
哪个波段的,换个材料试试
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 楼主| 发表于 2016-1-7 21:44:40 | 显示全部楼层
请问耐磨性不好的主要原因是薄膜硬度还是粗糙度?
烘烤250-300度左右氟化镁的硬度应该很好呀。
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发表于 2018-1-25 22:06:58 | 显示全部楼层
没有高手吗?
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