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单枪单电源如何能否制备宽带高反膜?

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发表于 2004-11-30 23:15:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

南光700型光控机能否制备宽带高反?如何制备?

要求在可见光区400—700nm,R99.9%

请各位高手指教,谢谢!

 楼主| 发表于 2004-12-1 02:16:00 | 显示全部楼层

有些人说要制备如上要求的薄膜,必须具备双枪双电源,至少8位孔以上的光控片,是不是这样?

这种膜好像有很多层呢,镀得层数越多,反射率越高,最后可达100%!

需要用对称周期膜堆来做,很费时,不知道是不是这样?

请各位高手赐教!

发表于 2004-12-1 02:39:00 | 显示全部楼层

需90层镀膜,可见光区400—700nm,R99.9% 。

 楼主| 发表于 2004-12-1 22:13:00 | 显示全部楼层

90层?!那单枪单坩埚恐怕做不了了,光控机构至少要10孔。

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