楼主: renajin

请教镀膜SiO2

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发表于 2005-6-28 20:40:00 | 显示全部楼层
基底温度对SiO2成膜影响不大,SiO2冷镀都可以.可能是基底没有处理干净或者反油,还有就是真空度没有达到.不知道你是在什么基底上镀的,和基底结合不牢也有可能,不过可能性不会太大.
发表于 2005-7-7 06:10:00 | 显示全部楼层
这是不难的问题!提高真空度,调整蒸发速率!以及基板温度的适当选择均可以消除附着力差的问题!
试一下吧,兄弟!
发表于 2005-7-7 15:45:00 | 显示全部楼层
楼主都不发言了,是否已经发现问题并解决问题了?
发表于 2005-7-6 17:04:00 | 显示全部楼层
基片是什么材料?如果基片材料没有问题,则可能是镀膜机返油或基片上没洗干净。
发表于 2005-7-11 22:50:00 | 显示全部楼层
基底的温度在250时表面活性最大.镀膜机返油或基片上没洗干净也应该予以考虑!
发表于 2005-7-11 22:55:00 | 显示全部楼层
基底没有处理干净或者反油,

温度也很重要!温度选择适当!
发表于 2005-7-13 00:59:00 | 显示全部楼层
TEMPERATURE、PRESSURE、RATE、ION SOURCE、GLASS CLEANING、VACUUM DEGREE、FILM COTER MACHINE CLEANING
发表于 2005-7-16 05:44:00 | 显示全部楼层
19楼的兄弟基本上把所有因素都列举出来了呀!
在下想问一下SiO2用多大的蒸镀速率最合适?
发表于 2005-7-18 01:35:00 | 显示全部楼层
不好说,根据你的镀膜机器,看你蒸镀条件(开始蒸度真空度,充气体否,有无离子辅助等)。
发表于 2005-7-22 22:15:00 | 显示全部楼层

回复:(renajin)请教镀膜SiO2

你说的现象是明显是附着力不好,通常造成的原因有:清洗工序有问题,本底真空度不够高;真空泵返油而污染腔体真空;靶材质量;工艺真空度不稳定;你采用的沉积方式等诸多原因。单从工艺角度说,采用中频电源磁控溅射的方法沉积SiO2的效果较好。
发表于 2005-7-27 19:27:00 | 显示全部楼层
他都没把他们具体怎么镀膜说明白,怎么能找的出来原因嘛,实际上脱膜的原因有很多。
找问题也要从实际工作出发哦。
发表于 2005-12-23 05:28:00 | 显示全部楼层

有几种可能:1。温度不够;2,真空度不够;3,基板不干净

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