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如何解决膜料的飞溅问题?

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发表于 2004-12-18 23:47:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

我镀氟化物时候,飞溅很厉害,可速度又不能太慢,怎么解决?

谢谢!!

发表于 2004-12-18 23:50:00 | 显示全部楼层

预热的时间长一些就可以了!

发表于 2004-12-18 23:53:00 | 显示全部楼层

药品第一阶段的热能预热和第二阶段的POWER预热时间都再长一些效果有所改变!

不知道可不可以?你试一下吧!

发表于 2004-12-19 01:07:00 | 显示全部楼层
預熔一定要充分!!
发表于 2004-12-19 16:53:00 | 显示全部楼层
是的預熔一定要充分!我镀MgF2时候,基本能控制在升华状态下完成镀膜!(从預熔到蒸发)所以没有飞溅现象发生
发表于 2004-12-22 03:57:00 | 显示全部楼层
OK,谢了!
发表于 2004-12-23 02:19:00 | 显示全部楼层

哈哈,你谢什么?

有意思~!

发表于 2004-12-24 20:14:00 | 显示全部楼层

我保证我的预熔是十分的充分,材料没有放气和空洞的情况。成膜过程中仍然有严重的喷溅,请问各位大侠,这是什么原因呢?(用电子枪蒸发镀膜)

发表于 2004-12-28 04:57:00 | 显示全部楼层

那就可能是你的电流打偏了

发表于 2005-1-12 21:09:00 | 显示全部楼层

是要预熔充分!用的什莫机器设备?多少的蒸发速率?为什麽不能慢?

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