在PMMA基底上镀制宽带减反射膜较之玻璃基底有许多难点所在：
1. 塑料基片一般是采用水清洗（不能采用有机溶剂），这样基片往往含有相当的水份，而且镀制中不能对基片加热（至少不能超过50摄氏度，否则可能热形变，甚至分解），因此镀制出来的膜层可能出现较大的吸收，且表面质量不太好；
2. 对于材质不好的塑料基底，在镀制过程中有明显放气现象，进而影响室内真空度；
3.采用离子轰击时（包括离子预清洗），离子的能量和离子流密度不宜过大，否则会产生负面效应（如，镀制后的膜层呈现“灰面”）；
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