[原创]抛光温度！

jackonlee · 发表于 2005-6-28 01:34:00

请问用聚氨酯盘抛光晶体时，室温一般时多少？湿度是多少？
它们对平面度的影响大吗？
高手指教！为何会影响？
感激涕零！

jackonlee · 发表于 2005-6-29 23:57:00

还请高手指点江山！
提示一下也行

laijf · 发表于 2005-6-30 19:55:00

这要看你抛什么晶体，不一样的晶体对温度和湿度都是不一样的。

jackonlee · 发表于 2005-7-1 18:30:00

就您抛的晶体说一下大概是多少？
谢谢！

swqtiger · 发表于 2005-7-29 07:17:00

咱们家日本技术员要求为２２－２６摄氏度，湿度百分之五十左右

jackonlee · 发表于 2005-8-9 17:59:00

谢谢楼上的提示
还请大侠多多指教

tyliu · 发表于 2005-12-22 20:45:00

你所说的晶体是什么材料啊？
理论上温度和湿度是有影响的。温度会影响抛光工作面的温度从而影响氧化和去膜效率，温度高了化学作用就会变强，低了则反之。湿度太大了晶片在抛光或清洗完成甩干后表面成能会结雾。湿度小了室内会因为太干燥而使净电增加，过多的净电会使灰尘吸附在晶片上。
一般情况下温度控制在17-23度之间，湿度在30-60%之间就可以了。

jackonlee · 发表于 2005-12-26 17:19:00

谢谢楼上的指导！

也就是说影响是有的

但不好定量，只能定性的说

fqming · 发表于 2005-12-27 18:48:00

是抛光晶片吗？晶片的是温度25度左右，湿度是40到60，其实如果是做晶体的话，这个抛光的温湿度影响不是很大的，主要是后工序的影响才大

fuwom · 发表于 2006-1-13 16:46:00

小弟建了一个抛光群QQ群号：18593978，欢迎大家加入。

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