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[讨论] Al2O3是不是会严重污染离子源

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发表于 2006-3-20 19:50:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位:
近期在做Al2O3的实验中,离子源(Optorun的RF源)的维护周期会明显缩短。
其原因是不是Al2O3容易产生污染?希望各位大侠说说你的经验!
 楼主| 发表于 2006-3-23 15:54:00 | 显示全部楼层

怎么不见高手指点呢?

是问题太低级了?汗!

发表于 2006-3-24 17:35:00 | 显示全部楼层
你就是高手,还让别人指点!凡绝缘材料都容易污染RF!关键让一些导电的部件绝缘了!
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