利用Nb2O5和Al2O3做多层膜(40层左右),结果出现明显的吸收(基板发黑,透过率和设计值相差20%左右)。
上述俩材料的镀膜条件在其他多层膜(Nb2O5/SiO2和Al2O3/Ta2O5)中都达到证
实,并没有出现明显的吸收现象。
请问出现这种现象的原因?有人说是Nb2O5和Al2O3在界面处出现了金属化现象,如果是这样,谁能给予一些理论分析吗?或者提供一些理论资料供参考,不甚感激!
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有可能吧
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