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求助:SPARTTERING和普通蒸镀机膜厚区别

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发表于 2006-12-23 05:45:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

求助:

我做的是石英谐振器.在作业中碰到这样的问题:

用普通蒸镀机做出来的产品( XO:25MHZ),在进行温测(-45度到90度)时,频率没有DIP现象.但是在用Spattering做出来的产品,在进行温测时,在低温出现频率DIP.

请教问题:(镀膜材料:镍+银)

1、用 SPAERTTING做出来的产品,在膜层方面与普通蒸镀机做出来的产品有何差别?

2、用这两种方式产做出来的产品,在晶片上产生的应力是怎么样的

发表于 2006-12-25 21:46:00 | 显示全部楼层

sputtering的会干扰晶控系统啊

'''''''''''''''''''''''''''''

发表于 2006-12-26 17:01:00 | 显示全部楼层
一般sputtering形成的膜致密 牢固些 应力方面要看各自的工艺拉
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