简单介绍一下试验背景和需求,高速摄影4500fps,曝光时间50us,cmos传感器,对象是易变形的半透明膜,尺寸大概为5cm*3cm*0.1cm。现在想在上面投射出若干平行片光,以测量其变形的程度。我本身不是学光学或测量的,我是学计算流体力学的......sigh所以不大懂,经费也不算足,目前想到这两种方法,请大家帮帮忙分析分析多给我的宝贵意见!
1)激光器+半柱透镜+光栅,这样应该行吧,缺点是激光器的功率要大一点,优点是省事。麻烦是买不到光栅,欢迎手头有资源的给我点消息。
2)激光器+狭缝+声光偏转器和压控振荡器+半柱透镜,这样子也行吧?优缺点和上面相反就是。
至于到底买半导体激光器还是氦氖激光器,目前还没有想好。请大家帮忙看看怎么做合适!多谢多谢!
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