离子源辅助镀膜技术

何谓人 · 发表于 2009-12-20 20:47:41

很好,谢谢楼主的贡献!!!!!!!!!!

lister3532 · 发表于 2010-4-20 01:48:24

希望藉著離子助鍍改善我目前n值提高n值謝謝分享

sunmang · 发表于 2010-4-27 03:01:44

非常感谢啊！！！！！！！！！！！！！

tonghua44 · 发表于 2010-5-30 17:01:19

tonghua44@163.com谢谢

springwu · 发表于 2011-6-14 15:06:33

好东西

a99533126 · 发表于 2011-7-11 15:13:11

学习一下吧

wangjg8955 · 发表于 2011-8-25 22:24:36

谢谢！

keyanfang · 发表于 2011-9-10 21:40:49

下了还是乱码，根本没办法看啊

冷月凝霜 · 发表于 2011-9-12 12:13:16

逐梦者 · 发表于 2011-9-13 23:46:30

晕，正想下，看评论就知道自己该

！

cikelong2000 · 发表于 2011-9-23 11:01:38

北京镨玛泰克全面提供各种功率离子源以及磁控溅射靶和各种弧源,有需要请联系13693572892 pmtek_lxl@163.com
一PowerIon系列圆形霍尔等离子源的特点简介

结构先进

等离子体束流大

可在高温环境下长期可靠工作

完全适用于反应气体

悬浮电位显示

安装简便、维护简单运行成本低

空间均匀性强

操作简单
I.

二阳极膜离子源的特点
 大束流,高密度
 无栅极和灯丝
 适合各种工作气体:O2, N2和
碳氢气体
 能在溅射压强下工作
 离子束能量范围:100~2000eV
 维护简单
基体预处理提高膜层附着力
提高膜层聚集密度
有效控制薄膜内应力,调整成分化学配比,优化显微结构

三受控型阴极弧源
 阴极弧源蒸发时而不产生熔池，可以任意方位布置，可采用多个弧源同时工作。
 离化率高于达80％，显著提高膜层附着力和性能。
 沉积速率快、效率高，无环境无污染、节能效果明显。

四溅射阴极源
 有限元计算磁场设计
 磁铁与水隔离, 避免性能退化
 高靶材利用率
 高溅射速率、高功率密度
 兼容射频和直流溅射模式

WEI爱依旧 · 发表于 2012-1-11 23:53:42

离子源辅助镀膜技术

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