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发表于 2007-6-27 17:06:27
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MEMS加工制造技术
由于MEMS中可以包含IC电路,且两者在制造工艺上都有尽可能精缩化、自动化的取向,所以两者的制造技术有相当程度的沿用。不过MEMS并非完全只用IC的制造工艺技术就能实现,还需用上许多MEMS专有的自属技术才行,以下我们针对两者在制造工艺上的差别进行了解。
今日IC所用的主材料多半为硅(Si),而对MEMS而言也适合用硅为材料,用硅材来实现机械组件有其益处,硅本身具有不易折断的特性,在机械运动时可靠耐用(往复使用的周期可达上百万次),此外单晶(Single Crystalin)硅合乎胡克定律(Hooke‘s law,也称:虎克定律),表现上几乎不具弹性滞后也几乎不耗能,因此适合用硅材加工成MEMS所需的机械组件,当然也适合MEMS中属于IC电路部分的电子组件。不过,除了硅之外,也有两种合适的MEMS材料:高分子材料(Polymer)与金属(Metal)。
先说明高分子材料,不使用硅材而改用高分子材料的主要理由在于成本,虽然结晶硅因为半导体产业的高度成熟发展而达到高规模用量的量价均摊,但结晶硅还是要从天然硅中经过层层不断的提炼才能成形,价格依然昂贵,相对的高分子材料也较其低廉,如此使MEMS可更适合在量大、低成本性的应用及生产,例如可抛式的血液测量器,测量器内所用的微流体装置即是需要大量低廉生产的MEMS装置。
也因为材料的不同,使得硅材料与高分子材料在制造成机械组件的加工方式有所不同,硅材用的是表面微加工、面型微加工、体型微加工、或与IC相同的制造工艺技术;相对的高分子材料是透过射出成形(Injection moulding)、压光(Embossing)、立体光固化(Stereolithography)等技术。
至于金属材料,虽然金属材料的诸多机械表现并不如硅材,但却具有高度的稳定性,因此也适合用于MEMS,目前适合做为MEMS的金属材料包括:铂、金、银、钛、钨、铝、镍、铬等等,至于运用的加工技术则有电镀(electroplating)法、蒸发(evaporation)法、喷溅(sputtering)法等。
除这些外,属于MEMS特有,且用于硅之外材料的加工技术还有:X光深刻技术、类LIGA光刻技术、精密电铸技术、微成形技术、微放电技术、微细低温技术、以及高分子加工技术等。其中LIGA相关技术已经成了另一门加工体系,除了类LIGA光刻(运用紫外光)的加工法外,还有微细电火花加工、超音波加工、电浆体加工、雷射加工、离子束加工、电子束加工、立体光刻成形等。 |
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