2007-9-14 20:42:27
真空室越大,均匀性越不易控制.
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2007-12-14 21:42:16
大家的见解有点不同啊
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2008-2-14 16:54:50
影响膜均匀性的是真空度,真空室会影响真空度,真空室的大小都是经典的,像600~800~1100~1300~1500都是根据不同需要选择的!真空室的太大,真空度的均匀性不好检测,而且膜料在真空室的均匀分布不好控制和监测,选择合适大小的真空室的便可以!
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2008-2-15 10:20:43
越大均匀性越差,和基片大小,发射特性等有关,很复杂的一个问题。
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2008-2-15 10:22:23
原帖由 ferry 于 2007-8-30 22:32 发表
但是在奥普康的某型号中有这样的说法:
3、真空室内腔尺寸:φ1100mm×1400mm;
        ★注:我们把真空室的内腔高度由1100mm改为1400mm,极大地提高了蒸镀膜系的均匀性和离子源能量作用的均匀性,提高膜层 ...


这个应该是可以算出来的,可以让他们提供数据看看
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2008-2-17 10:13:53
同等大的腔体,提高高度有利于均匀性,不利于牢固性,折射率也相对低点。
同等高度,扩大腔体,均匀性变差。
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2008-3-29 08:10:06
我的观点是,真空室高度越大,在同等条件下,膜层的均匀性就越好,因为膜的均匀性与蒸发距离的平方是成反比的,但是材料(镀膜膜料)的利用率低,成本高些,另外,真空室高度高,相对容积大,抽真空的速度慢些.
   以上,供您参考一下子咯.
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2008-6-5 17:43:55
我用2050的机器,均匀性很难调,真空室越大均匀性越不好控制,mask的形状在这里是尤为关键,很难做到很好。另外机器越大转架越大,转架基本都是分体的,每次喷砂后重新安装时,对称,和变形的消除都是很难的,曲线也会产生差异
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2008-7-1 03:30:12
真空窒的大小和均匀性的关系镀膜厂家不用去考虑,而是生产设备厂家去想办法解决

设备厂家将设备做好了,均匀性才好,做差了,均匀性就差。
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2008-7-3 17:20:46
原帖由 tfc 于 2008-2-17 10:13 发表
同等大的腔体,提高高度有利于均匀性,不利于牢固性,折射率也相对低点。
同等高度,扩大腔体,均匀性变差。

还是不大不小的好啊
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2008-7-4 10:18:30
原帖由 nation 于 2008-7-1 03:30 发表
真空窒的大小和均匀性的关系镀膜厂家不用去考虑,而是生产设备厂家去想办法解决

设备厂家将设备做好了,均匀性才好,做差了,均匀性就差。


你发现国内哪个设备厂家解决了均匀性问题?好象母猪不会上树吧?
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2008-7-4 11:14:14
反之~~~~~~~~~~~~~~~             ~~~~~~~~~~~~~
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