宽带增透探讨

niechunyang · 发表于 2007-9-6 08:05:36

在做400-700高透要求每一点小于0.5% 用al2o3 h4 mgf2 选了两种膜系 mgf2 al2o3 h4 mgf2
与mgf2 al2o3 h4 al2o3 mgf2 不知道可好，我做了效果不是很好，是材料和膜系有问题吗，谢谢师傅们的探讨

zzzz · 发表于 2007-9-6 09:12:22

al2o3和H4都不是很稳定的料,控制起来比较难

xiaozhou · 发表于 2007-9-6 18:29:34

是R<.5%吧,不难主要看什么材质

niechunyang · 发表于 2007-9-7 12:31:09

在普通玻璃上呀，H4还不稳定那该用什么？

zinuo009 · 发表于 2007-9-9 14:44:34

试一试TiO2/SiO2/TiO2/SiO2

lgciom · 发表于 2007-9-10 21:12:09

第一层不用氟化镁，主要是把吸收问题解决一下，应该可以

ferry · 发表于 2007-9-11 11:22:52

弱弱地问一句,H4是什么膜料啊?

jhxxmlhk · 发表于 2007-9-12 00:17:28

S/H4/MgF2/H4/MgF2/H4/MgF2/Air,分光够宽,前两层镀稳定整个分光就稳定了.分光变异了制程也好修.在光学玻璃上镀AR膜Al2O3/H4/MgF2的组合是成功的,有时候考虑到品质问题首层需要镀Al2O3.

jhxxmlhk · 发表于 2007-9-12 00:20:27

个人经验来看Ta2O5不是那么稳定,用jeol离子源辅助镀膜的时候分光变异很奇怪的,不过R<0.5%的制程可以做,0.3的就不稳定了.

上海chen · 发表于 2007-9-13 10:21:56

用离子枪辅助,采用ZNS/MGF2膜系工艺.效果不错的.

ferry · 发表于 2007-10-11 16:27:24

ZrO2和mgF2

zhouchen0510 · 发表于 2008-1-10 19:23:30

为什么必须用光控呢？应该是晶控比光控更精确啊

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