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原帖由 huhu 于 2008-6-28 10:54 发表 毕竟溅射机型源与基板的距离相对较近,而且能量偏大,表面质量的控制明显较蒸发机型压力大。 再现性较好,规模连续生产的优势较大,生产流程也比较好控制。柔性不足,材料选择面较小,更换复杂。
原帖由 nation 于 2008-7-3 23:01 发表 有溅射镀光学膜的很多啊关键是你是什么设备。
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