窄带滤光片 设计
求高手指点设计膜堆,使用TI/SIO2靶材 不知道楼主的具体要求,看楼主贴图曲线这个明显不是三腔可以达到。
还是贴出具体要求的好 wazxq 发表于 2011-6-27 13:20 static/image/common/back.gif
不知道楼主的具体要求,看楼主贴图曲线这个明显不是三腔可以达到。
还是贴出具体要求的好
T50= 左825右875NM
带宽基本在50NM,截止深度OD3 或OD2在750-800nm 900-1000NM 1001 -1100 nm T(AVG) <1%
其余可见光截止 即可
目前主要是设计问题,带宽不好找适当的膜堆。求高手了 高手啊{:6_143:} {:6_143:}高手 本帖最后由 wazxq 于 2011-6-30 22:17 编辑
这个至少要用5cavity,
不过以这个实际情况用35-40层的膜去优化更好,主要看用什么设备来实现 关注中, 继续顶啊,学习学习 wazxq 发表于 2011-6-30 22:15 static/image/common/back.gif
这个至少要用5cavity,
不过以这个实际情况用35-40层的膜去优化更好,主要看用什么设备来实现
使用的光驰机台,调试的过程中还发现HB 800 基板表面容易氧化,镀完膜后拉膜脱膜。
真希望用D263T基板,但是客户指定的哈
努力改善中 本帖最后由 filmokay 于 2011-7-3 10:15 编辑
光驰机也可以装靶材了?
还是把要求写下来,看你贴的图里面好像是很多杂峰(截止带). filmokay 发表于 2011-7-3 10:14 static/image/common/back.gif
光驰机也可以装靶材了?
还是把要求写下来,看你贴的图里面好像是很多杂峰(截止带).
T50= 左825右875NM
带宽基本在50NM,截止深度OD2在750-800nm 900-1000NM 1001 -1100 nm T(AVG) <1%
其余可见光截止 即可
光驰机台离子镀啊,靶材就是药材了,可能叫法 不一样