loyaldavis 发表于 2004-5-24 20:02:00

[原创]弱弱的问：关于均匀性课题的问题

<P>各位好</P>
<P>我现在的课题就是光学薄膜的均匀性问题，可是到了现在都快一年了，也就发了一篇关于均匀性的文章，而且现在针对光学薄膜的均匀性进行修正的时候，多是靠经验，但是发文章比较困难，因为均匀性和工艺联系很紧密，但是理论上的支持不够；</P>
<P>看了很多的文献，国外的和国内的，觉得这方面的好像不是很多，而且现在做的很多东西国外几十年前都已经做过了，如果把这个问题作为课题来研究的话，请问各位大侠：应该从那方面着手呢？最好还能和工艺联系的紧密一些，这是老板的要求，也就是说：最好能用到工艺上！</P>
<P>请各位大侠指教！</P>

loyaldavis 发表于 2004-5-24 20:21:00

<P>PS：各位在处理均匀性的时候，是按照什么标准来表示均匀性呢？中心波长？？还是直接测出物理厚度呢？</P>

zz 发表于 2004-5-25 00:09:00

都行，你觉的方便就行

yin99 发表于 2004-5-25 01:39:00

loyaldavis 发表于 2004-5-25 03:02:00

<P>是啊你怎么知道的？</P><P>你也是哈哈</P>

天涯孤星 发表于 2004-5-27 21:02:00

<P>这个比较难做，我也在考虑，当然我们的行业可能更简单些</P>

loyaldavis 发表于 2004-5-28 17:31:00

<DIV class=quote><B>以下是引用<I>天涯孤星</I>在2004-5-27 13:02:22的发言：</B>

<P>这个比较难做，我也在考虑，当然我们的行业可能更简单些</P></DIV>
<P>是啊 理论上的东西太少
<P>很多理论又不具备实用价值</P>

yin99 发表于 2004-5-28 17:39:00

loyaldavis 发表于 2004-6-1 00:38:00

<P>成都的吧？呵呵</P>

lcoating 发表于 2004-6-5 22:40:00

均匀性一般用不同位置处的膜厚的相对偏差来表示，均匀性一般涉及到设备的几何配置、蒸发源的发射特性与蒸发稳定性，这可以从理论上来计算的，但有时设备还要考虑膜料的入射角，温度均匀性的影响，离子源均匀性的影响，从而带来的折射率的均匀性等。均匀性在一些高要求的膜的制造中，作用非常关键。这项课题需要多年的经验积累来做，厚积薄发。

loyaldavis 发表于 2004-6-7 23:45:00

<P>楼上说的有道理，但是你也知道，里面有很多的随机情况。</P><P>不论是设备的几何配置，蒸发源的发射特性与蒸发稳定性，虽然说可以从理论上进行计算，但是在实际的镀膜过程中，每一次的厚度分布都是有差别的，很多时候在计算完几何配置来优化均匀性以后，就只能用挡板等方法去修正了，而且，Willey的书上也曾经提到，关于挡板的修正，理论上的东西实际很难提供什么帮助，关键是经验。</P><P>同意楼上所说的厚积薄发，确实需要多年的积累。</P>
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