光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究
利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法，针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了测量方案和仪器参数。对常见的$9912正型光刻胶，给出了曝光前后275～650nm波段的光学常数。并采用动态椭偏法测量了所需波长下曝光前的光学常数。实验结果表明：该测量方法适用于光刻胶在紫外一可见．红外宽波段的光学性质研究，在光刻模拟、新型光刻胶材料研制及其光学性质表征等领域有重要实用价值。 THX！！！！！！！ 谢谢楼主分享{:6_143:}{:6_145:}{:6_145:}
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