AR_coating 发表于 2012-5-21 14:37:30

镀ITO的时候,出现很多whisker(细须, 须晶)

最近镀ITO的时候, 发现在wafer上有很多whisker(细须, 须晶), 但同时作为厚度验证的硅衬底上却没有。 所有参数都和以前一样, 不知道是什么问题? 哪位专家有经验?多谢了。

shuangzixing 发表于 2012-5-25 10:17:35

镀在啥基片上。是用单一的膜料吗

jitaomath 发表于 2012-9-6 22:34:17

应该是基板上有参杂形成的缺陷,
增加通氧量试试,或者减少镀率

2011059 发表于 2012-9-7 11:17:06

{:6_145:}路ˋ過學習

crl0129 发表于 2014-1-16 12:50:50

{:6_145:}

yuliang518 发表于 2014-5-19 17:48:13

{:6_143:}{:6_143:}
页: [1]
查看完整版本: 镀ITO的时候,出现很多whisker(细须, 须晶)