vietti 发表于 2004-8-31 17:18:00

[求助]关于离子辅助

<P>离子辅助镀完一层膜后，厚度控制的刚好</P>
<P>可镀下一层时因要预熔，预熔时离子会把上一层</P>
<P>的膜打掉一些吧？</P>
<P>该怎么控制呢？</P>

bohr123 发表于 2004-9-2 07:19:00

<P>不错，有当班</P>

zz 发表于 2004-8-31 17:47:00

<P>你那是啥源啊！何况你也用不着开那么大的能量吧。</P>

guangang 发表于 2004-8-31 18:26:00

<P>你的離子源沒有擋板麼？</P><P>裝一個擋板不就OK了？</P>

Leesnow 发表于 2004-8-31 18:31:00

<P>对啊,有挡板啊,而且可以控制打开和关闭的时间的啊!</P>

guangang 发表于 2004-8-31 23:27:00

那你预熔的时候把挡板关上，镀的时候再打开就没有关系了么？坩埚挡板和离子源挡板同时打开，基本上没有什么影响，除非你的离子源有问题，或者是能量太大了！！
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