vietti 发表于 2004-9-1 17:25:00

[讨论]沉积速率的大小对镀膜质量的影响

<P>其他条件相同的情况下</P>

hzg168 发表于 2004-9-5 01:05:00

镀膜速度太快,对膜层的颜色会有影响.

cjjiang 发表于 2004-9-1 17:44:00

<P>沉积速率大，达到基地的物质来不及扩散，会使膜变得疏松，影响膜的致密性</P><P>（新手，不知道说得对不对，望指教）</P>

wish 发表于 2004-9-1 17:47:00

<P>若沉积速率大，</P><P>材料的折射率会有变化，可能影响光性；</P><P>材料容易喷溅，导致膜面容易出现点子；</P><P>薄膜的均匀性受影响；</P>

likeoe 发表于 2004-9-1 19:47:00

<DIV class=quote><B>以下是引用<I>cjjiang</I>在2004-9-1 9:44:10的发言：</B>

<P>沉积速率大，达到基地的物质来不及扩散，会使膜变得疏松，影响膜的致密性</P>
<P>（新手，不知道说得对不对，望指教）</P></DIV>
<P>最好有实验数据表明沉积速率与致密性的关系。我也可以说，沉积速率大了，到达基底的物质来不及散开，会使膜变得致密，呵呵</P>

Leesnow 发表于 2004-9-2 06:41:00

不能这么笼统的说吧,例如你的设备有离子源,那么相应的参数就会有一定的蒸发速率,如果不同呢,那么首先折射率会改变,然后有可能引起吸收,如果再大的话,膜的晶状结构就会发生变化(我只是知道,还没有见过啊^_^)......不过,有的介质就不会有那么大的变化,如sio2!如果你的设备上面没有离子源,那么....我也不知道了,谁知道上来说说啊!

linmaco 发表于 2004-9-2 08:19:00

<TABLE fixed; WORD-BREAK: break-all" width="90%" border=0><TR><TD 9pt; LINE-HEIGHT: 12pt" width="100%"><img src="http://bbs.oecr.com/Skins/Default/topicface/face1.gif"> <B></B>
不能这么笼统的说吧,例如你的设备有离子源,那么相应的参数就会有一定的蒸发速率,如果不同呢,那么首先折射率会改变,然后有可能引起吸收,如果再大的话,膜的晶状结构就会发生变化(我只是知道,还没有见过啊^_^)......不过,有的介质就不会有那么大的变化,如sio2!如果你的设备上面没有离子源,那么....我也不知道了,谁知道上来说说啊!

----------------------------------------------</TD></TR></TABLE><P>怎么总对自已没有信心，我觉得分析很有道理，速率绝对有好处－－－效率高（能多赚钱）有些厂家就采用这方法生产IR-CUT，搞得市场混乱，价格狂跌！现在这段时间大家最好少买摄像头，价实货不真，差得要命，不如各位是否有同感？上面问题在杭州光会的光盘中有些论述。</P>

nittohai 发表于 2004-9-4 18:56:00

对很多镀膜物质来说，高的蒸发速度能提高物质的折射率，能增加膜的致密度。不过均匀性会受到影响。

vietti 发表于 2004-9-6 18:40:00

<P>有的说增加致密性，有的说降低致密性。</P><P>到底是怎样呢？</P><P>继续讨论........</P>

guangang 发表于 2004-9-6 21:40:00

<P>理论上速率高是可以增加膜料的折射率的,不同的材料增加的程度是不一样的!真空度高也能提高折射率,还有温度越高折射率越高.</P><P>镀膜的三个基本要素:基底温度,真空度,蒸发速率(T.P,V)</P>

showashinku 发表于 2004-9-7 01:03:00

镀膜的三个基本要素:基底温度,真空度,蒸发速率(T.P,V)

vacuum 发表于 2004-9-21 18:43:00

速率太快容易造成膜層結構鬆散
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