光电社区 › 光学镀膜技术及膜系设计 › HR R>97%@300-450,I=45度

fql3310 发表于 2012-9-6 00:35:36

HR R>97%@300-450,I=45度

   基材是熔石英，想用ZRO2这个膜料来镀。还真是做不出来。
   充氧压强，离子源氧气工作加压强氧气，氩气工作氧气放于片子二十厘米处。三种模式都镀不出来。记得好像最后面的曲线会更好一点－－用了119层。用考夫曼离子源。
   难道非得用VEECO机来镀才行？
   

valle 发表于 2012-9-6 08:49:19

你是用现在的机器镀119层？

qjy 发表于 2012-9-6 21:23:17

人才呀！这个要求选用ZrO2，还用了119层的膜系，最后还没做出来，真的是五体投地了，佩服呀

fql3310 发表于 2012-9-6 21:38:20

你是什么公司？报上名来，或者QQ联系我，我QQ123831403，楼上的做得了的联系我。这个产品会拿去直接测反射。没问题的话你就联系我吧。

zouyou828459 发表于 2012-9-6 23:11:18

高反膜的膜层不能太多的，刚好就行

zunxiu0214 发表于 2012-9-7 08:58:00

人才 这种用到119层。。。

hzkd 发表于 2012-9-7 10:25:27

用HfO2 ZrO2不行吧！控制一下膜层的总厚度！

zouyou828459 发表于 2012-9-7 21:25:17

二氧化锆绝对可以做到，而且要用正确的镀膜手法，用离子源的话有可能做不了，不用离子源去做试试，楼主

zouyou828459 发表于 2012-9-7 21:25:20

二氧化锆绝对可以做到，而且要用正确的镀膜手法，用离子源的话有可能做不了，不用离子源去做试试，楼主

fql3310 发表于 2012-9-13 23:41:00

嗯，谢谢，有个国外的朋友说过，用莱宝机用ZRO2和SIO2镀过比这更高的反射。

captainH 发表于 2012-9-14 08:09:57

;P;P;P;P;P

fql3310 发表于 2012-9-14 19:36:52

有话就说，不要扯淡。

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