试一下吧,兄弟! 楼主都不发言了,是否已经发现问题并解决问题了? 基片是什么材料?如果基片材料没有问题,则可能是镀膜机返油或基片上没洗干净。 基底的温度在250时表面活性最大.镀膜机返油或基片上没洗干净也应该予以考虑! 基底没有处理干净或者反油,
温度也很重要!温度选择适当! TEMPERATURE、PRESSURE、RATE、ION SOURCE、GLASS CLEANING、VACUUM DEGREE、FILM COTER MACHINE CLEANING 19楼的兄弟基本上把所有因素都列举出来了呀!
在下想问一下SiO2用多大的蒸镀速率最合适? 不好说,根据你的镀膜机器,看你蒸镀条件(开始蒸度真空度,充气体否,有无离子辅助等)。
回复:(renajin)请教镀膜SiO2
你说的现象是明显是附着力不好,通常造成的原因有:清洗工序有问题,本底真空度不够高;真空泵返油而污染腔体真空;靶材质量;工艺真空度不稳定;你采用的沉积方式等诸多原因。单从工艺角度说,采用中频电源磁控溅射的方法沉积SiO2的效果较好。 他都没把他们具体怎么镀膜说明白,怎么能找的出来原因嘛,实际上脱膜的原因有很多。找问题也要从实际工作出发哦。 <P>有几种可能:1。温度不够;2,真空度不够;3,基板不干净</P>