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光学镀膜技术及膜系设计
› [讨论] Al2O3是不是会严重污染离子源
ic5
发表于 2006-3-20 19:50:00
[讨论] Al2O3是不是会严重污染离子源
各位:
近期在做Al2O3的实验中,离子源(Optorun的RF源)的维护周期会明显缩短。
其原因是不是Al2O3容易产生污染?希望各位大侠说说你的经验!
ic5
发表于 2006-3-23 15:54:00
<P>怎么不见高手指点呢?</P>
<P>是问题太低级了?汗!</P>
snebur
发表于 2006-3-24 17:35:00
你就是高手,还让别人指点!凡绝缘材料都容易污染RF!关键让一些导电的部件绝缘了!
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[讨论] Al2O3是不是会严重污染离子源