何谓人 发表于 2009-12-20 20:47:41

很好,谢谢楼主的贡献!!!!!!!!!!

lister3532 发表于 2010-4-20 01:48:24

希望藉著離子助鍍改善我目前n值提高n值 謝謝分享

sunmang 发表于 2010-4-27 03:01:44

非常感谢啊！！！！！！！！！！！！！

tonghua44 发表于 2010-5-30 17:01:19

tonghua44@163.com谢谢

springwu 发表于 2011-6-14 15:06:33

好东西

a99533126 发表于 2011-7-11 15:13:11

{:6_156:}学习一下吧

wangjg8955 发表于 2011-8-25 22:24:36

谢谢！

keyanfang 发表于 2011-9-10 21:40:49

下了还是乱码，根本没办法看啊

冷月凝霜 发表于 2011-9-12 12:13:16

{:6_143:}

逐梦者 发表于 2011-9-13 23:46:30

晕，正想下，看评论就知道自己该{:6_145:}！

cikelong2000 发表于 2011-9-23 11:01:38

北京镨玛泰克全面提供各种功率离子源以及磁控溅射靶和各种弧源,有需要请联系13693572892pmtek_lxl@163.com
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空间均匀性强

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二阳极膜离子源的特点
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        无栅极和灯丝
        适合各种工作气体:O2, N2和
碳氢气体
        能在溅射压强下工作
        离子束能量范围:100~2000eV
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三受控型阴极弧源
        阴极弧源蒸发时而不产生熔池，可以任意方位布置，可采用多个弧源同时工作。
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        沉积速率快、效率高，无环境无污染、节能效果明显。

四溅射阴极源
        有限元计算磁场设计
        磁铁与水隔离, 避免性能退化
        高靶材利用率
        高溅射速率、高功率密度
        兼容射频和直流溅射模式

WEI爱依旧 发表于 2012-1-11 23:53:42

{:6_143:}
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