ferry 发表于 2007-8-27 13:23:37

问个浅显的问题,真空室越大(高),相对而言是不是膜厚均匀性越好啊?

问个浅显的问题,真空室越大(高),相对而言是不是膜厚均匀性越好啊?

tfc 发表于 2008-2-17 10:13:53

同等大的腔体，提高高度有利于均匀性，不利于牢固性，折射率也相对低点。
同等高度，扩大腔体，均匀性变差。

ferry 发表于 2007-8-28 09:55:23

高手怎么不回答下啊

zzzz 发表于 2007-8-30 08:03:36

适当即可
真空是起码要求
到了一定的真空,影响不大

Leesnow 发表于 2007-8-30 11:21:48

回复 #1 ferry 的帖子

真空室还是真空度阿？
真空室有影响吗？不太清楚，好像是没有吧！膜厚均匀性和离子源的分布以及蒸发源，真空度都有点关系！

x_x_x_f 发表于 2007-8-30 15:54:48

真空室越大，膜厚均匀性越差。
很明显，如果只考察伞盘上的一个很小的环带，均匀性肯定好；
如果这个环带变宽，那么均匀性肯定就需要做一些调整；
实际的，如果真空室越大，那么膜厚均匀性的修正就越困难，修正板越难修。
这个是我个人的看法，互相交流一下。

niechunyang 发表于 2007-8-30 20:36:55

那个是有科学依据的，要设计好了在定

ferry 发表于 2007-8-30 22:32:22

回复 #5 x_x_x_f 的帖子

但是在奥普康的某型号中有这样的说法:
3、真空室内腔尺寸：φ1100mm×1400mm；
      ★注：我们把真空室的内腔高度由1100mm改为1400mm，极大地提高了蒸镀膜系的均匀性和离子源能量作用的均匀性，提高膜层的质量
不知到底哪个是对的了.

zzzz 发表于 2007-9-3 08:57:44

内腔高度提高了这是整体结构调整,当然会影响均匀性了,

chb0320 发表于 2007-9-5 09:50:01

均匀性好像是跟离子源、蒸发源、溅射源与基底距离、基片大小有关系吧？
如果镀的膜越大，离子源、蒸发源、溅射源与基底的距离应该相对越远，所以真空室越大是否有助于调节均匀性？
不知道对不对。

wazxq 发表于 2007-9-5 19:58:37

真空室直径约大越难做好均匀性~~~~~~~~

zzzz 发表于 2007-9-6 09:13:44

然以
..........................................

上海chen 发表于 2007-9-14 12:59:38

从我从事多年的镀膜经验来看,真空室的高度和均匀性有一定的关系.但无法用数据来给与解释.
真空室越高均匀性会好,但抽速会变慢.
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