hezhiwei629 发表于 2008-1-16 16:01:54

镀膜求助

我在真空度为9.7E-5mbar的条件下镀铝然后SIO2为保护层(SIO2的膜层很薄大概为7nm厚度)要求170-900nm R>85% 为什吗在170-200nm和在铝膜的转折点830-800nm的时候R<85% 哪为高手能帮忙解释下先谢谢了

hezhiwei629 发表于 2008-1-17 08:23:21

哪位高手帮忙指导下呀!!!!!!!!!!!!!!!!!

zzzz 发表于 2008-1-17 08:35:47

你是如何测试绝对反射得?测试准确性如何?
SIO2在200nm以下有吸收.

hezhiwei629 发表于 2008-1-17 13:24:52

我是使用PERKIN ELMERL LAMBDA19 UV/VIS/NIR 测试的绝对反射 因为SIO2只是作为保护 我们只镀60nm(设计数值) 因为我们以前是在新加坡做的可以达到要求 可是回来之后就达不到要求了
我们在那边是8.0E-6mbar才开始镀的在中国压强只能达到9.0E-6mbar 会不会是压强低了些造成的????

[ 本帖最后由 hezhiwei629 于 2008-1-17 13:26 编辑 ]

zzzz 发表于 2008-1-18 10:21:55

你用的是V-W反射架还是用专门的组件测绝对反射?
SIO2厚度再减点

hezhiwei629 发表于 2008-1-18 16:00:32

我用的是V-W反射架 我现在实际镀上SIO2的厚度大约为6-7nm的厚度 我怕太薄了 保护膜有问题呀   虽然减少SIO2的厚度 但是对于提高800-850nm阶段的R 用FILMSTAR软件看 几乎是不变的呀. 您还能帮我想想还有其他什吗地方会影响到吗???先谢谢了.

john03062003 发表于 2008-1-21 09:55:25

软件设计的都是些理想的情况， 但还要看具体的基片，还有测试绝对反射率要用专门的测试装置才行，你所测的是一个参比出来的数值，不是很准确！

zzzz 发表于 2008-1-23 08:19:35

如果你的厚度确定是正确的
那就测试系统可能有问题,170-200可能测试精度就不高

hezhiwei629 发表于 2008-1-23 10:57:00

我还想再问一下 SiO2在200nm以下吸收与真空度的关系大概真空在多少时 可以减少SiO2的吸收???

HGcoating 发表于 2008-1-23 11:22:30

如果不是测试误差就是厚度有问题了，衍射比形成光栅测出来就会那样。具体还要看情况才能确定

yuangong 发表于 2008-1-23 20:19:22

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zzzz 发表于 2008-1-28 14:16:12

设备先进？？
啥设备啊？？？？？？？？？？？？？？？？？？
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