Ben19 发表于 2009-2-17 21:04:42

请问有哪位是镀晶体（KTP，YVO4，LBO，YAG）薄膜的？交流下技术。

小弟是一个刚入门不久的镀膜工艺技术员，现在正负责公司在晶体镀膜方面工艺，我们用的是莱宝机和VECCO机，我负责的是莱宝机，自上个工程师以来一直在晶体镀膜方面存在一些技术问题，希望和各位交流，互相学习一下。我的邮箱是：chenshubin19@163.com
   在KTP和YVO4这两种晶体方面一直存在一个出光功率小的问题，我们用激光照射时发现散射很严重，光斑根本聚集不到一点去。一直都有在进行工艺改进，但发现没多大改善，散射问题还是挺严重，老是受到客户的投诉，不知各位有何见解，希望能交流交流一下。

zzzz 发表于 2009-2-18 09:15:21

CASTECH地同志?????????????????????????????????

tfc 发表于 2009-2-18 10:33:52

做好APS的工艺先。其次，你要说明用了什么膜料。再考虑晶体的装载工艺。

zhangking 发表于 2009-2-18 10:59:32

YAG 检验表面，用显微镜

Ben19 发表于 2009-2-18 13:23:33

3# tfc

离子源中工艺我试过几种，加大放电电流，调节放电功率，想把离子源能量加大一点，看效果是否好点，但实验出来后感觉没多大变化。我所用的是TA2O5和SIO2两种材料。
因为一直以前我们都是用这两种靶材来镀制KTP和YVO4晶体，所以改用其他材料的话工艺不太成熟，有难度，表面光洁度也挺差的。
我是想在离子源方面进行工艺改进，有何建议？
你们是否也是用莱宝镀膜的？希望交流！谢谢

Ben19 发表于 2009-2-20 22:35:06

怎么都没人回复呢？急需帮助

zzzz 发表于 2009-2-24 08:17:14

那是否说用VEECO做的就好?
激光打散射严重?晶体内部质量?高阶模?

tfc 发表于 2009-2-24 12:17:03

1.配镀K9或石英玻璃，一起检测散射。证明是否确实由膜层引起。
2。离子源清洁在镀晶体很重要。
3。膜料是没有问题的。
4。调节离子能量、蒸发速度。
5。莱宝机镀晶体，在我是十年前，没有什么问题的，玩莱宝，比我好的不多。
6。离子源改进工艺是可行的，根据实际情况，可能也做小手术。

yezhi381009880 发表于 2009-2-24 18:44:34

学习中，BEN19是CASTECH的吗？？？？？？？？？？？？

fql3310 发表于 2009-2-27 20:01:36

感觉是晶体本身问题。。。不然可以用没有镀过膜的晶体用激光器照一下看看有没有散斑。

zzzz 发表于 2009-3-2 08:29:34

这是检查晶体质量必备的手段了,肯定都检过了

38368323 发表于 2009-3-5 21:40:06

很深奥啊，好好学习天天向上
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