光圈变形问题
我们机抛在盘上时面型可以达到要求,下盘以后光圈就会变形,大家有什么高见吗?欢迎探讨指教 本帖最后由 wcq1224 于 2009-7-15 11:21 编辑楼主要把问题说清楚一点啊!不然没办法回答的!
比如:是平面还是球面,具体用什么加工方法,用什么样的工具?…………………… 哦,用二轴机加工平面元件,是散粒膜料抛光 温度,导致空气密度不通~ 上盘是关键
还有一种不可取的方法是补偿 做平面加工特别要注意上盘方式的选择,注意零件的厚径比(有时也叫长高比),比值大于6的零件就要注意下盘前后的光圈变化问题了,通常我们点胶法上盘光圈变形较大,浮胶(围胶)法光圈变形稍小,光胶法光圈变形最小,特殊要求时还可以设计专用分离器进行加工,以求获得高精度的平面面型。 这种现象就应力变形,主要是由:材料本身的应力,材料的厚度与直径比小于1:10;上盘时拉力不均匀产生的应力,加工过程中产生的应力,环境温度变化产生的应力。你在抛光过程中看面形,这些应力总体是平衡的,看到的光圈是规则的。但一下盘,这些应力平衡被打破,上盘的拉力没有后,零件光圈就变得不规则了。
客服的方法,1、将零件的厚度增加;2、尽量采用光胶上盘;3、保持一致的环境温度;4、最好低光圈下盘; 做平面加工特别要注意上盘方式的选择,注意零件的厚径比,注意下盘前后的光圈变化问题了......点胶法上盘光圈变形较大,浮胶(围胶)法光圈变形稍小,光胶法光圈变形最小.......... 学习了,楼上说的很好 弱弱的问一下。什么是点胶法和浮胶法~~ 球面还是平面,用的 什么加工方法,当然你要看怎么变,变多少,然后决定下什么光圈 顶起 .....不要让帖子沉了