缘睐汝痴 发表于 2011-11-30 19:54:09

蒸发速率影响膜层结构疏松问题

在该论坛看了很多关于膜层不牢的问题，其中就蒸发速率有两种不同的说法：
1.蒸发速率大，导致膜层结构疏松，膜层不牢
2.蒸发速率大，膜层越紧密，膜层越牢(我一直是这么认为的)
我也做了一次实验，但是还是不敢妄下结论，我前后做了两次单层MGF2实验，第一次的速率设定是4A/S,第二次是8A/S，测试结果反映出4A/S的速率的时候膜层牢固度更好。这和我之前的想法矛盾了
请大家给分析分析，谢谢了

272813953 发表于 2011-11-30 23:20:45

1.蒸发速率大，导致膜层结构疏松，膜层不牢
2.蒸发速率大，膜层越紧密，膜层越牢(我一直是这么认为的)

你这话不是说的不对吗??????????

缘睐汝痴 发表于 2011-12-1 10:52:36

272813953 发表于 2011-11-30 23:20 static/image/common/back.gif
1.蒸发速率大，导致膜层结构疏松，膜层不牢
2.蒸发速率大，膜层越紧密，膜层越牢(我一直是这么认为的)



就是互相矛盾的哈，所以请你们给自己的意见

Jimmy_tang 发表于 2011-12-1 13:04:36

我想你是不是把单位时间的蒸发量和蒸发气体的速率弄混了？
蒸发气体的速度快才会附着更牢固吧。
参考晶体生长理论，单位时间内蒸发量大，除了导致膜料蒸发气体浓度增大外，还会导致膜层堆积时的缺陷增加吧？

yibi11 发表于 2011-12-1 17:05:00

速率要合适，太快太慢对牢固度都有影响。两个方面来说这个问题，一般来说，基地与膜料能形成化合键，则牢固度更好，所以，一方面，蒸发速率快，则减少了它们反应的时间，那会降低薄膜的牢固度，可是另一方面，速率快，增加了沉积分子的动能而改善薄膜的牢固度。这本来就是一个矛盾的综合体，要找到合适的速率，太快太慢都不好。

xiao2011 发表于 2011-12-1 18:40:28

{:6_143:}

缘睐汝痴 发表于 2011-12-1 18:57:52

yibi11 发表于 2011-12-1 17:05 static/image/common/back.gif
速率要合适，太快太慢对牢固度都有影响。两个方面来说这个问题，一般来说，基地与膜料能形成化合键，则牢固 ...

恩，有道理，谢谢

272813953 发表于 2011-12-1 20:47:00

{:6_143:}{:6_143:}{:6_143:}

E501559 发表于 2011-12-5 08:45:37

镀膜材料的不同，速率大小也有差异的，不能一概而论

jiahao1985312 发表于 2011-12-5 13:10:29

虽然微观的分析我不敢下结论，但是我有一次故意把速率加大，爽到是爽了，但是出现麻点，且高功率过不了。所以从此，就慢工出细活

ipshjh2005 发表于 2011-12-14 22:53:25

{:6_143:}{:6_143:}

likeoe 发表于 2011-12-14 23:30:01

yibi11 发表于 2011-12-1 17:05 static/image/common/back.gif
速率要合适，太快太慢对牢固度都有影响。两个方面来说这个问题，一般来说，基地与膜料能形成化合键，则牢固 ...

沉积速率快，分子动能不会增加，应该是单位时间内的沉积分子数增加了。
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