DANNY
发表于 2004-9-5 22:40:00
请教：AL2O3 折射率的控制
AL2O3 理论折射率是1.6687（632nm），我镀出来膜折射率总是在1.60以下，我的目标是1.64以上！有什么办法
cjyzq
发表于 2004-9-6 04:12:00
提高蒸发速率、使用离子源。
showashinku
发表于 2004-9-6 23:42:00
氧气少一些会提高折射率
deveitu
发表于 2004-9-9 23:04:00
DANNY
发表于 2004-9-9 23:05:00
加热 T=300°C，真空度单位是PA
zz
发表于 2004-9-6 16:04:00
计算方法是否正确
guangang
发表于 2004-9-6 18:18:00
氧氣充少一些！！
flyinlove79111
发表于 2004-9-7 01:10:00
<P>一般的机子上可以做到１.６２，没有离子源的情况下１．６４可能做不到吧</P>
DANNY
发表于 2004-9-8 16:57:00
氧气少一些会提高折射率 ！那么不加氧气会怎么样！因为我想提高真空度（6*10E-4）
zz
发表于 2004-9-9 16:27:00
适当充O2，你那单位是PA还是TOR？
yakochen
发表于 2004-9-9 18:45:00
<P>基片能加热吗？这样也能提高折射率，不需离子源。</P>
DANNY
发表于 2004-9-14 23:09:00
谢谢你们！我已经得到我要的结果了！